PVD设备

PVD设备

PVD(Physical Vapor Deposition,物理气相沉积)指利用物理过程实现物质转移,将原子或分子由源转移到基材表面上的过程。它的作用是可以使某些有特殊性能(强度高、耐磨性、散热性、耐

  • 磁控溅射沉积设备(科研生产型)

    磁控溅射沉积设备(科研生产型)

    磁控溅射设备是一种多功能、高效率的镀膜设备。可以在陶瓷、玻璃、石英、硅片等基底材料上溅镀金属、非金属、氧化物、介质等材料的薄膜,如:Au、Al、NiCr、TiW、Si、Al2O3、Si3N4、ZnO、ITO..

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  • 磁控溅射沉积设备(连续生产Ⅰ)

    磁控溅射沉积设备(连续生产Ⅰ)

    磁控溅射设备是一种多功能、高效率的镀膜设备。可以在陶瓷、玻璃、石英、硅片等基底材料上溅镀金属、非金属、氧化物、介质等材料的薄膜,如:Au、Al、NiCr、TiW、Si、Al2O3、Si3N4、ZnO、ITO..

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  • 磁控溅射沉积设备(连续生产Ⅱ)

    磁控溅射沉积设备(连续生产Ⅱ)

    磁控溅射设备是一种多功能、高效率的镀膜设备。可以在陶瓷、玻璃、石英、硅片等基底材料上溅镀金属、非金属、氧化物、介质等材料的薄膜,如:Au、Al、NiCr、TiW、Si、Al2O3、Si3N4、ZnO、ITO..

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  • 离子束溅射沉积设备

    离子束溅射沉积设备

    本设备是根据溅射原理,在真空条件下,利用低能聚焦离子束轰击靶材表面,溅射的靶材淀积到基片表面,形成薄膜的溅射镀膜(淀积)设备。设备主要用于微电子器件制造和薄膜材料..

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